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RTEP-R2R -连续式卷绕真空镀铝设备-PET, OPP, PI, PP, PVC

连续式卷绕真空镀铝设备:塑料薄膜在设备中连续不断地进行放卷、镀膜和收卷操作,生产效率高,适用于大规模生产。该设备通常配备多个蒸发源或溅射靶材,能够在薄膜表面镀上较厚的铝膜,同时保证镀膜的均匀性。这一过程增强了塑料薄膜的屏障性能、装饰吸引力和功能,可用于各种应用,如包装、电子产品和特殊产品。

塑料薄膜沉积铝, 铜等金属涂层

光学膜层

工作原理

1. 热蒸发真空镀膜原理:通过加热蒸发源,如电阻加热、感应加热或电子束加热等方式,使铝金属材料达到蒸发温度,在高真空环境下,铝原子变成气态,从蒸发源向各个方向逸出。由于塑料薄膜在镀膜室内以卷绕的方式连续移动,气态铝原子便会沉积在塑料薄膜表面,形成一层均匀的铝膜。

2. 磁控溅射真空镀膜原理:在真空环境下,利用磁场控制电子的运动轨迹,使电子在靶材表面附近做螺旋运动,增加电子与气体分子的碰撞几率,从而产生大量的等离子体。在等离子体中,氩离子在电场作用下加速轰击铝靶材,使铝靶材表面的原子被溅射出来,沉积在塑料薄膜表面形成铝膜。

结构组成

1. 真空系统:由真空泵、真空阀门、真空管道和真空计等组成,用于抽除镀膜室内的空气和其他气体,创造高真空环境,确保镀铝过程不受外界气体干扰。一般采用罗茨泵、扩散泵等真空泵组合,以满足不同真空度的要求。

2. 蒸发源或溅射靶材:蒸发源用于热蒸发镀膜,常见的有电阻加热蒸发源、感应加热蒸发源和电子束蒸发源等,其作用是将铝材料加热至蒸发温度。溅射靶材则用于磁控溅射镀膜,通常为铝靶材,在等离子体的轰击下,靶材表面的铝原子被溅射出来。

3. 卷绕机构:包括放卷装置、收卷装置和张力控制系统等。放卷装置用于放置待镀铝的塑料薄膜卷材,并将薄膜匀速放出;收卷装置则用于将镀铝后的薄膜卷绕成卷;张力控制系统能够保持薄膜在卷绕过程中的张力恒定,确保镀膜均匀性和薄膜质量。

4. 镀膜室:是镀铝过程发生的场所,内部设有蒸发源或溅射靶材、镀膜辊等部件。镀膜室需要具备良好的密封性和真空保持性能,以保证镀铝过程在高真空环境下进行。

5. 控制系统:由 PLC、触摸屏、传感器等组成,用于控制设备的各个部件协同工作,实现镀膜过程的自动化控制,如控制真空系统的抽气过程、蒸发源或溅射功率的调节、卷绕速度的控制以及张力的调节等,还可以实时监测和显示设备的运行参数,如真空度、温度、镀膜厚度等。

应用领域

1. 包装行业:在食品、药品、化妆品等包装领域应用广泛,镀铝后的塑料薄膜具有良好的阻隔性能,能够有效防止氧气、水汽等对包装内容物的侵蚀,延长产品保质期,同时还能提高包装的美观度和光泽度。

2. 电子行业:可用于制造电容器、电池隔膜、电子屏蔽材料等。例如,在电容器中,镀铝塑料薄膜作为电极材料,能够提高电容器的性能和稳定性。

3. 光学领域:用于生产光学反射膜、增透膜等光学薄膜,改善光学元件的光学性能,如在反光镜、望远镜等光学仪器中得到应用。

4. 建筑和汽车行业:可制造建筑用隔热膜、汽车车窗防晒膜等,镀铝塑料薄膜能够反射红外线和紫外线,起到隔热、防晒的作用,提高建筑物和汽车的能源利用效率和舒适性。