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RTSPPVD 磁控溅射技术是一种物理气相沉积技术，用于在基底表面沉积薄膜材料。 其工作原理: 在真空腔室中，通入氩气...
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RTSP800-AuDC直流磁控溅射镀真金设备-医疗器械,珠宝收拾,电子产品,光学元件等. 永容科技为寻求可靠团队长期合作的制造...
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RTSP900PVD直流(DC)磁控溅射镀铬设备-汽车轮毂镀铬 PVD真空镀铬涂层工艺已在汽车行业使用了数十年。 RTSP900真空磁...
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RTSP1000-TaPVD磁控溅射镀钽过程：在靶材背面设置磁场，磁场与电场相互垂直。电子在磁场的作用下，沿着靶材表面做摆线运动。...
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RTSP1200-FCEVPVD与（PECVD) 等离子体增强化学气相沉积复合式镀膜设备, 应用于FCEV氢能源燃料电池双极板薄膜沉积. 氢能源...
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RTSP1250RTSP1250为一款生产型中等规模非平衡磁控溅射镀膜设备. 非平衡磁控溅射镀膜设备是一种先进的物理气相沉积设...
