· 膜层质量高：磁控溅射镀膜可以精确控制薄膜的厚度和成分，使金膜层具有较高的纯度和均匀性，膜层组织均匀密实，外观质量好。

· 附着力强：在镀膜过程中，金原子与基材表面之间会形成良好的结合力，使金膜层牢固地附着在基材上，不易脱落或起皮。

· 环保无污染：整个镀膜过程在真空环境中进行，不使用化学镀液或电镀液，避免了化学物质对环境的污染和对人体的危害。

· 可镀复杂形状：磁控溅射技术可以在各种形状和尺寸的基材上进行镀膜，包括平面、曲面、小孔、凹槽等复杂形状的工件，能够满足不同产品的设计需求。

· 低温工艺：磁控溅射的低温特性使其适用于对温度敏感的基材，如聚合物、塑料、玻璃等，不会因高温而导致基材变形、变质或性能下降。

PVD真空磁控溅射镀膜工艺步骤:

1. 基材处理：对基材进行清洁和预处理，通常包括超声波清洗、溶剂清洗、等离子清洗等，以去除基材表面的油脂、灰尘和氧化物等污染物，还可能需要进行表面活化处理，如氧化或等离子刻蚀，以增强薄膜与基材之间的附着力

2. 装炉：将处理好的基材放入磁控溅射镀膜设备的真空室内，固定在合适的位置上。

3. 抽真空：启动真空泵系统，将真空室抽至所需的低压环境，一般要求在 10??托以下，以减少气相中杂质的影响。

4. 充入气体：向真空室内充入适量的氩气，作为溅射过程中的工作气体。

5. 启动电源：接通磁控溅射设备的电源，产生等离子体并加速氩离子，使其轰击金靶材。

6. 溅射镀膜：在等离子体的作用下，金靶材表面的原子被溅射出来并沉积在基材上，形成真金薄膜。在镀膜过程中，需要控制好溅射时间、靶材功率、气体流量、偏压等参数，以获得所需的薄膜厚度、均匀性和性能。

7. 冷却出炉：镀膜完成后，关闭电源和气体阀门，让样品在真空室内自然冷却至室温，然后取出镀膜后的工件。

· 珠宝首饰：可以在各种珠宝首饰的表面镀上一层真金薄膜，提高首饰的外观质量和装饰效果，同时降低生产成本。还可以通过控制镀膜厚度和工艺参数，获得不同颜色和光泽的金膜层，满足消费者的个性化需求。

· 电子产品：如手机外壳、电脑外壳、手表表带等，在其表面镀真金可以增加产品的美观度和高档感，同时还可以提高产品的耐磨性、耐腐蚀性和导电性等性能。

· 光学元件：在光学镜片、反射镜、滤光片等光学元件的表面镀上一层金膜，可以提高其反射率、透过率和抗反射性能，改善光学元件的光学性能和使用寿命。

· 医疗器械：一些医疗器械如手术刀、镊子、植入式器械等，在其表面镀真金可以提高器械的生物相容性、耐腐蚀性和抗菌性能，减少器械与人体组织之间的摩擦和排斥反应。

尼龙纺织带 微电子电路板

医疗器械

PVD 磁控溅射镀真金的成本大致如下：

按镀膜面积计算

· 在普通工业生产中，对于较小尺寸的工件，如 300*400mm2 的不锈钢基材镀真金，成本大概在 400-800 元左右。

· 对于较大面积的平板玻璃或金属板材镀膜，以每平方米计算，成本通常在 500-1500 元左右。如果是对精度和膜层质量要求极高的电子元件或光学元件，每平方米的成本可能会超过 2000 元。

按产品类型计算

· 珠宝首饰类：普通的戒指、项链等小件饰品，镀真金的成本一般在 50-200 元左右。如果是较为复杂的设计或对膜层厚度及质量要求较高的高端首饰，成本可能会达到 300-500 元甚至更高。

· 电子产品类：如手机外壳、手表表带等，单个产品的镀真金成本在 50-150 元左右。对于一些高端电子产品，如限量版手表外壳等，由于对镀膜工艺和质量要求极高，成本可能会超过 300 元。

· 光学元件类：小型的光学镜片、滤光片等，镀真金的成本在 100-300 元左右。大型的光学反射镜或高精度的光学窗口等，成本可能会达到 500-1000 元甚至更高。

按镀膜厚度计算

· 一般较薄的金膜层，厚度在 0.1-0.3 微米左右，每平方厘米的镀膜成本在 0.5-1 元左右。

· 中等厚度的膜层，厚度在 0.3-0.5 微米，每平方厘米成本在 1-2 元左右。

· 对于厚度超过 0.5 微米的厚膜层，每平方厘米成本可能会达到 2-5 元左右。