Multi950 是上海永容光电科技有限公司研制先进涂层设备的里程碑。

感谢 Yimou Yang 董事长与上海大学的学生和陈教授的创造性和无私奉献，我们得以将他门的宝贵理念转化为先进的涂层设备。

2018 年，我们与陈教授进行了另一个项目合作，即通过感应热蒸发法沉积 C-60 材料。Yimou Yang先生和陈教授是这些创新项目的基础。

经过与陈教授领导的上海大学团队的密切交流，我们最终确定了设计和配置以满足他们的研发应用。该系统能够使用 PECVD 工艺沉积透明 DLC 膜、在工具上沉积硬涂层以及使用溅射阴极沉积光学膜。基于此试点机器设计理念，我们随后开发了另外 3 种多边形功能性镀设备

1. 氢能源燃料电池电动汽车双极板涂层设备 - FCEV1200

2. DPC陶瓷直接镀铜设备 - DPC1200

3. PCB柔性印刷电路板镀膜设备 - PCB1200

这 3 台机器均具有多边形 (八角形) 腔体，可在各种应用中实现灵活可靠的性能。它可实现多种不同的金属层制程需求：铝、铬、铜、金、银、镍、锡、不锈钢,钽, 铍, 錋和许多其他非铁磁性金属。加上离子源单元，其等离子蚀刻性能可有效增强不同基底材料上的薄膜附着力，而 PECVD 工艺可沉积一些碳基不导电膜层。

PVD 与 PECVD 复合式真空镀膜设备的应用领域十分广泛，以下是一些主要的应用领域：

1. 电子信息领域

1.1 半导体制造：在半导体芯片制造过程中，可用于沉积金属电极、绝缘层、钝化层等。如通过 PVD 沉积金属钨、铜等作为电极材料，再利用 PECVD 沉积氮化硅、氧化硅等绝缘介质层，提高芯片的性能和可靠性。

1.2 显示技术：在 OLED、QLED 等显示面板的生产中，可用于制备透明导电膜、电子传输层、空穴传输层等功能薄膜。例如，采用 PVD 制备 ITO 透明导电膜，用 PECVD 沉积有机或无机的发光层和传输层，以实现高分辨率、高亮度和低功耗的显示效果。

1.3 电子元件制造：用于制造电阻、电容、电感等电子元件的表面镀膜，提高元件的性能和稳定性。还可在电子封装领域，对封装外壳进行镀膜，增强其防潮、抗氧化和电磁屏蔽性能。

2. 光学领域

2.1 光学镜片与镜头：可在镜片和镜头表面沉积增透膜、高反射膜、滤光膜等，减少光线反射，提高透光率，增加光学系统的成像质量和效率。例如，在相机镜头、望远镜镜头、显微镜物镜等上的应用。

2.2 光学薄膜器件：制备波分复用器、光隔离器、偏振片等光学薄膜器件，通过精确控制膜层的厚度和折射率，实现对光的波长、偏振等特性的调制。

2.3 激光技术：在激光谐振腔、激光窗口等部件上镀膜，提高激光的反射率、透过率和抗损伤阈值，保证激光系统的稳定运行和高效输出。

3. 机械与汽车工业领域

3.1 工模具制造：在切削刀具、冲压模具、注塑模具等表面沉积硬质耐磨涂层，如 TiN、TiAlN、CrN 等，可显著提高模具的硬度、耐磨性、润滑性和抗腐蚀性，延长模具的使用寿命，降低生产成本。

3.2 汽车零部件：用于汽车发动机的活塞环、气门、曲轴等部件的表面处理，形成耐磨、减摩、耐腐蚀的涂层，提高发动机的性能和可靠性；在汽车的灯具、后视镜、挡风玻璃等部件上镀膜，可实现防雾、防眩目、隔热等功能；还可在汽车车身表面制备装饰性和防护性涂层，增强车身的美观度和耐候性。

4. 能源领域

4.1 太阳能光伏：在太阳能电池的制造中，可用于沉积透明导电氧化物薄膜、减反射膜、钝化层等，提高太阳能电池的光电转换效率和稳定性。例如，在晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池上的应用。

4.2 锂离子电池：在锂离子电池的电极材料表面镀膜，可改善电极的导电性、稳定性和循环性能。如在正极材料表面沉积金属氧化物或碳材料薄膜，在负极材料表面沉积锂合金薄膜等，提高电池的容量和安全性。

5. 生物医学领域

5.1 医疗器械：在医用植入物如人工关节、心脏起搏器、血管支架等表面沉积生物相容性涂层，如类金刚石薄膜、羟基磷灰石薄膜等，可提高植入物的生物相容性、耐腐蚀性和耐磨性，减少人体对植入物的排异反应，延长植入物的使用寿命。

5.2 生物传感器：用于制备生物传感器的敏感膜和保护膜，提高传感器的灵敏度、选择性和稳定性。例如，在葡萄糖传感器、DNA 传感器等上的应用，可实现对生物分子的快速、准确检测。

5.3 航空航天领域

航空发动机部件：在发动机的叶片、燃烧室、涡轮等部件表面沉积热障涂层、耐磨涂层和抗氧化涂层，如 YSZ 陶瓷涂层、MCrAlY 合金涂层等，可提高发动机的热效率、可靠性和使用寿命，降低维护成本。

航天飞行器部件：在航天器的结构件、光学窗口、热控系统等部件上镀膜，实现防辐射、隔热、导电、润滑等功能，确保航天器在恶劣的太空环境中正常运行。

1. 灵活性：弧阴极和磁控溅射阴极、离子源安装法兰标准化，可灵活更换

2. 多功能性：可在金属和非金属材料基材上沉积各种普通金属和金属合金；光学涂层、硬涂层、软涂层、化合物膜和固体润滑膜等

3. 简洁的设计：立式, 前,后 双开门结构，便于维护

4. 紧凑的占地面积

5. 标准模块化设计

6. 灵活

7. 可靠性, 稳定性能卓越

8. 八角形腔体结构

9. 可满足 PVD + PECVD 工艺制程的需求

PVD 与 PECVD 复合式真空镀膜设备具有以下优势：

1. 膜层性能方面

1.1 膜层质量高：
PVD 可使膜层致密、均匀性好、附着力强，能精确控制膜层厚度和成分；
PECVD 可以通过等离子体增强反应，使膜层更加均匀、致密，无针孔等缺陷，二者结合可进一步提升膜层的质量，使膜层具有更好的耐磨性、耐腐蚀性、抗氧化性等。

1.2 膜层功能多样化：
PVD 可以制备金属膜、合金膜、陶瓷膜等多种材料的薄膜；
PECVD 则擅长制备氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳化物薄膜等，复合后可以在同一设备上实现多种膜层的制备，满足不同的应用需求，如同时实现电磁屏蔽、光学透过、防水防潮、耐磨损等多种功能。

2. 工艺制程方面

2.1 低温沉积：PECVD 可以在相对较低的温度下进行膜层沉积，避免了高温对2.2 基材性能的影响；PVD 中的一些工艺如磁控溅射也能在较低温度下工作，复合式设备可以充分发挥这一优势，适用于对温度敏感的材料和部件，如塑料、聚合物、电子元件等。

2.3 工艺灵活性高：既可以单独使用 PVD 或 PECVD 工艺，也可以根据需要将两种工艺结合使用，还能通过调整工艺参数，如沉积时间、功率、气体流量等，实现对膜层结构和性能的精确控制，满足不同产品的个性化镀膜需求。

3. 生产效率方面

3.1 沉积速率快：PVD 和 PECVD 本身都具有一定的沉积速率优势，复合式设备可以在不同的工艺阶段选择更适合的镀膜方式，从而在一定程度上提高整体的沉积速率，减少镀膜时间，提高生产效率。

3.2减少生产环节：将 PVD 和 PECVD 两种工艺集成在一台设备上，避免了在不同设备之间转移工件的过程，减少了生产环节和生产周期，提高了生产的连续性和稳定性，降低了生产成本和人工成本。

4. 设备稳定性方面

4.1 设备结构紧凑：将两种镀膜技术整合在同一设备中，减少了设备的占地面积和复杂性，使设备结构更加紧凑，便于操作和维护，同时也降低了设备的故障概率和维修成本。

4.2 系统兼容性好：复合式设备在设计时通常会考虑 PVD 和 PECVD 工艺的兼容性，采用统一的真空系统、控制系统、气体供应系统等，使设备的运行更加稳定可靠，减少了因系统不兼容而导致的故障和停机时间。

5. 环保与安全方面

5.1 减少污染排放：PECVD 和 PVD 在镀膜过程中一般不使用或很少使用有毒有害的化学物质，产生的废弃物和污染物较少，对环境更加友好，符合现代绿色制造的发展趋势。

5.2安全性能高：设备通常配备了完善的安全防护装置，如真空泄漏检测、过温过压保护、等离子体放电防护等，确保了操作人员和设备的安全。同时，由于减少了化学物质的使用，也降低了因化学物质泄漏、挥发等带来的安全风险。