设备型号：RT1200-FCEV

镀膜技术：采用PECVD+PVD磁控溅射沉积：Si、Cr、石墨靶，产生不平衡闭合磁场，获得高密度、高均匀性和优异耐腐蚀性的碳基薄膜。

项目时间: 自2015年至今

项目地点: 中国

在镀膜技术的前沿探索中，上海永容光电科技有限公司推出的 RT1200 - FCEV 高真空磁控溅射沉积系统，凭借卓越性能与创新设计，成为行业瞩目的焦点。

先进镀膜技术，铸就卓越品质

RT1200 - FCEV 融合 PECVD + PVD 磁控溅射沉积技术，采用 Si、Cr、石墨靶，通过产生不平衡闭合磁场，能够获得高密度、高均匀性且具备优异耐腐蚀性的碳基薄膜。这种先进的镀膜技术，不仅满足了高端应用对于薄膜质量的严苛要求，更为产品的性能提升奠定了坚实基础。

独特结构设计，兼顾便捷与高效

该设备采用立式,八边形结构搭配前后双开门，方便操作人员进出设备，极大地提高了操作便利性。这种结构设计不仅保证了设备灵活可靠的性能，广泛适用于各种应用场景，还能满足涂层工艺对 Ta、Cr、Si、石墨、Al 等多种不同金属层的需求，为多样化的生产需求提供了有力支持。

众多设备特点，凸显显著优势

环保先锋：环保工艺技术,杜绝危险废物产生，在追求高效生产的同时，积极践行绿色发展理念，为可持续发展贡献力量。

全集成模块化：全集成、模块化设计，使得设备的安装、调试与维护更加便捷，有效缩短了生产周期，降低运营成本。

商业化标准化：专为工业批量生产打造，实现商业化和标准化，确保产品质量稳定，满足大规模生产需求，助力企业提升市场竞争力。

高效离子源：极其高效的离子源，具备强大的附着力和高电离度，结合等离子蚀刻性能与 PECVD 工艺，有效增强不同基底材料上的薄膜附着力，同时可沉积优质碳基层，提升产品综合性能。

操作简便智能：采用触摸屏 + PLC 控制，一键操作即可完成复杂流程，降低操作人员技术门槛，提高生产效率，即使新手也能轻松上手。

高均匀沉积：特殊设计的旋转转架系统，确保沉积均匀性达到极高水平，为生产高品质产品提供有力保障。

高生产率稳定：具备每周 24/7 不间断工作的能力，以高生产率和稳定性，满足企业高强度生产需求，为企业创造更大价值。

灵活适配多样：可灵活匹配各种尺寸的板材，满足单面或双面涂层需求，为不同生产场景提供个性化解决方案。

RT1200 - FCEV 高真空磁控溅射沉积系统，是您在镀膜领域的理想之选。如需了解更多信息，欢迎随时联系我们，携手共创镀膜行业新辉煌.