R&D研发型多功能镀膜设备

设备型号：Multi950-R&D

镀膜技术：PVD+PECVD

项目时间：2015年

项目地点：中国上海

安装和测试：5天

调试和培训：3天

在科技飞速发展的时代，上海永容光电科技有限公司凭借卓越的技术与创新精神，成为镀膜设备领域的佼佼者。2015 年，第三台 Multi950 - R&D 镀膜设备于上海大学成功安装，这一里程碑事件，开启了永容光电在科研与应用领域的新篇章。

先进设备，卓越性能

Multi950 - R&D 作为一款 R&D 研发型多功能镀膜设备，融合了 PVD + PECVD 镀膜技术，具备诸多独特优势：

灵活配置：电弧和溅射阴极、离子源安装法兰标准化，可根据不同镀膜需求快速更换，为研发工作提供了极大的灵活性，让科研突破不受限。

功能多元，应用广泛：无论是金属还是非金属材料基材，都能沉积各类贱金属、合金以及光学涂层、硬涂层等多种薄膜，全方位满足多种研发应用需求，是科研创新的得力助手。

直观设计，便捷维护：采用双门结构，前后打开，操作人员可轻松进行设备检修与保养，减少维护成本与时间，确保设备高效稳定运行。

该系统功能强大，通过 PECVD 工艺可沉积透明 DLC 薄膜，在工具上沉积硬质涂层，还能通过溅射阴极沉积光学薄膜，为上海大学的科研工作提供了坚实有力的支持。

持续创新，拓展领域

基于 Multi950 - R&D 的先进设计理念，上海永容光电乘胜追击，相继开发出燃料电池电动汽车双极板涂层 - RT1200 - FCEV、陶瓷直接镀铜 - RT1200 - DPC、柔性溅射系统 - RTSP1200 - PCB 三个涂层系统。这四种型号设备均采用八面体镀膜腔体，性能灵活可靠，不仅能满足多种不同金属层的涂层工艺要求，更凭借离子源单元的等离子刻蚀性能，增强薄膜在不同基底材料上的附着力，同时利用 PECVD 工艺沉积碳基膜层，进一步拓展了镀膜技术的应用边界。

携手共进，感恩同行

Multi950 不仅是一台设备，更是上海永容光电复合式真空镀膜系统的重要里程碑。这一成就的背后，离不开上海大学团队的支持，特别是陈教授的卓越贡献。2018 年，双方再度携手，开展通过感应热蒸发法沉积 C - 60 材料的项目合作，持续书写科技创新的精彩篇章。

上海永容光电科技有限公司将继续秉持创新精神，不断探索镀膜技术的无限可能，与各界伙伴携手共进，为推动行业发展贡献力量。如需更多信息，欢迎随时联系我们。