低温电弧气相沉积（LTAVD）是一种新型的阴极电弧等离子体物理气相沉积工艺。
LTAVD 基本原理
在真空环境中，通过在阴极和阳极之间施加高电压，使气体电离形成等离子体。等离子体中的离子在电场作用下加速轰击阴极靶材，使靶材原子或分子蒸发、电离并形成气态的等离子体羽流。这些等离子体中的物质在基体表面沉积形成薄膜。
LTAVD 的特点是可以在较低温度下进行沉积，减少了对基体材料的热影响，适用于对温度敏感的材料，如一些塑料等。
技术优势
1. 低温沉积：能在较低温度下进行镀膜，避免了高温对基体材料性能的影响，特别是对于 ABS 等热塑性塑料，可防止其变形、老化等问题。
2. 膜层质量高：沉积的膜层与基体结合力强，不易脱落，且膜层均匀、致密，具有良好的物理和化学性能，如硬度、耐磨性、耐腐蚀性等。
3. 工艺环保：LTAVD 是一种干式镀膜工艺，不需要使用化学溶液，减少了对环境的污染和对操作人员健康的危害。
4. 适用范围广：几乎可以沉积任何金属、合金、金属间化合物以及许多陶瓷和完全反应的金属，能够满足不同材料和性能的需求。
在 ABS 上的应用
1. 提高表面导电性：ABS 塑料本身是一种绝缘材料，通过 LTAVD 技术可以在其表面沉积一层金属薄膜，如铜、镍等，从而使 ABS 塑料具备良好的导电性，可用于制造电子设备的外壳、电磁屏蔽材料等。
2. 增强耐磨性和耐腐蚀性：沉积的金属或陶瓷薄膜可以显著提高 ABS 塑料的表面硬度和耐磨性能，使其在一些需要长期使用且容易受到摩擦和腐蚀的环境中具有更好的耐久性，如汽车内饰件、家电外壳等。
3. 改善光学性能：通过选择合适的沉积材料和工艺参数，LTAVD 可以在 ABS 塑料表面制备出具有特定光学性能的薄膜，如增透膜、反射膜等，可用于光学仪器、显示屏等领域。
4. 赋予装饰性：可以根据需要在 ABS 塑料表面沉积出各种颜色和外观的薄膜，如金色、银色、黑色等，实现美观的装饰效果，满足不同产品的个性化设计需求，广泛应用于日常消费品、玩具等领域。
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